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旋轉涂布機涂布機.com(Mikasa)的產品使用交流伺服電機,因此無刷,因此在潔凈室中污染良好,通過降低電機的發熱,在連續使用時,由于溫度升高,薄膜厚度再現性也難以受到影響。
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旋轉涂布機涂布機.com(Mikasa)的產品使用交流伺服電機,因此無刷,因此在潔凈室中污染良好,通過降低電機的發熱,在連續使用時,由于溫度升高,薄膜厚度再現性也難以受到影響。
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日本MIKASA旋轉涂布機 - SpinCoater -MS-B100 系列 ■ 特點 ■ MIKASA**的旋轉控制系統不但可以達到5,000rpm以上的高速旋轉,且旋轉數精度全實現了 ±1rpm的高精度 ■ 可任意設定旋轉數(0~5,000rpm)和到達旋轉數的時間(0.2sec~999.9sec),因此可輕易地控制膜厚。 ■ 可追加滴下設備(MS-A150/MS-A200)
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支持擺動噴嘴式噴灑顯影及攪拌式顯影 考慮到耐藥性, 在接液部位使用 SUS 基板尺寸 Φ1~Φ6 Inch 通過液晶觸摸面板進行編程輸入, 操作簡單*多可擴充至 3 種藥液 連續進行藥液、沖洗、排液處理 內置藥液壓力推送泵
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■ 特點 ■ 手動操作、接觸式對準曝光機。 ■ 依照不同需求以及成本考量?有準直儀型?多面鏡型?整合(積算器)型三種曝光光源。 ■ 有可對應5×5mm~100×100mm以及1 inch~6 inch的基板的各類機種。 ■ Mask Holder?載臺的更換作業簡單易行,可在1分鐘內完成,適合用于研究開發。 ■ 對準顯微鏡的對物鏡可對應高對準精度或厚膜等用途,并且有4×、10×、20×三種。
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日本MIKASA旋轉涂布機 - SpinCoater -MS-B150 系列 ■ 特點 ■ MIKASA**的旋轉控制系統不但可以達到5,000rpm以上的高速旋轉,且旋轉數精度全實現了 ±1rpm的高精度 ■ 可任意設定旋轉數(0~5,000rpm)和到達旋轉數的時間(0.2sec~999.9sec),因此可輕易地控制膜厚。 ■ 可追加滴下設備(MS-A150/MS-A200)
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旋轉涂布機涂布機.com(Mikasa)的產品使用交流伺服電機,因此無刷,因此在潔凈室中污染良好,通過降低電機的發熱,在連續使用時,由于溫度升高,薄膜厚度再現性也難以受到影響。
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旋轉涂布機涂布機.com(Mikasa)的產品使用交流伺服電機,因此無刷,因此在潔凈室中污染良好,通過降低電機的發熱,在連續使用時,由于溫度升高,薄膜厚度再現性也難以受到影響。
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■ 手動操作、接觸式對準曝光機。 ■ 依照不同需求以及成本考量?有準直儀型?多面鏡型?整合(積算器)型三種曝光光源。 ■ 有可對應5×5mm~100×100mm以及1 inch~6 inch的基板的各類機種。 ■ Mask Holder?載臺的更換作業簡單易行,可在1分鐘內完成,適合用于研究開發。 ■ 對準顯微鏡的對物鏡可對應高對準精度或厚膜等用途,并且有4×、10×、20×三種。
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支持擺動噴嘴式噴灑顯影及攪拌式顯影 考慮到耐藥性, 在接液部位使用 SUS 基板尺寸 Φ1~Φ6 Inch 通過液晶觸摸面板進行編程輸入, 操作簡單*多可擴充至 3 種藥液 連續進行藥液、沖洗、排液處理 內置藥液壓力推送泵
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AMAYA天谷制作所MOCVD 氣相沉積設備; Doctor-TTM ? 8 英寸晶圓兼容 ? 可 沉積金屬氧化膜、金屬氮化膜等 ? 采用 磚利無氯氣化器 ? 擁有 4 種 MO 材料線 ? 單室/雙腔室 可選
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■ 特點 ■ MIKASA**的旋轉控制系統不但可以達到5,000rpm以上的高速旋轉,且旋轉數精度全實現了 ±1rpm的高精度 ■ 可任意設定旋轉數(0~5,000rpm)和到達旋轉數的時間(0.2sec~999.9sec),因此可輕易地控制膜厚。 ■ 可追加滴下設備(MS-A150/MS-A200)
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■ 特點 ■ MIKASA**的旋轉控制系統不但可以達到5,000rpm以上的高速旋轉,且旋轉數精度全實現了 ±1rpm的高精度 ■ 可任意設定旋轉數(0~5,000rpm)和到達旋轉數的時間(0.2sec~999.9sec),因此可輕易地控制膜厚。 ■ 可追加滴下設備(MS-A150/MS-A200)
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光刻.com從旋涂機(涂布機)到掩模對準器(曝光裝置),以及用于開發和蝕刻的研究實驗室機器。 此外,作為測量,我們還處理各種測量機,用于薄膜厚度測量、階梯測量、線寬和形狀測量。
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支持擺動噴嘴式噴灑顯影及攪拌式顯影 考慮到耐藥性, 在接液部位使用 SUS 基板尺寸 Φ1~Φ6 Inch 通過液晶觸摸面板進行編程輸入, 操作簡單*多可擴充至 3 種藥液 連續進行藥液、沖洗、排液處理 內置藥液壓力推送泵