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UCU-L160SL224-M4-M1 uv固化裝置 UNILAM優尼光UCU-L160SL224-M4-M1 uv固化裝置 UNILAM優尼光UCU-L160SL224-M4-M1 uv固化裝置 UNILAM優尼光
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UCU-LF150SL155-M7-M7 晶圓切割膠帶**用UV裝置 UNILAM優尼光UCU-LF150SL155-M7-M7 晶圓切割膠帶**用UV裝置 UNILAM優尼光v
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蘇州代理 UNILAM優尼光 研究所用散射UV曝光照射裝置蘇州代理 UNILAM優尼光 研究所用散射UV曝光照射裝置蘇州代理 UNILAM優尼光 研究所用散射UV曝光照射裝置
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蘇州代理 UNILAM優尼光 研究所用散射UV曝光&照射裝置 特征：可以調整UV均勻度和照射距離而且適用冷卻既能可保持常溫。 應用范圍：液晶及光培養物質實驗用，高分子膜散射曝光用（線幅30μm級以上） 蘇州代理 UNILAM優尼光 研究所用散射UV曝光&照射裝置
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特征：可以調整UV均勻度和照射距離而且適用冷卻既能可保持常溫。 應用范圍：液晶及光培養物質實驗用，高分子膜散射曝光用（線幅30μm級以上）蘇州代理 UNILAM優尼光 研究所用散射UV曝光照射裝置蘇州代理 UNILAM優尼光 研究所用散射UV曝光照射裝置
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特征：帶有高功率UV照度和優良的均勻度的6時代mobileLCD用掃描曝光機 適用中壓UV還有把光掩膜和吸附曝光薄膜的狀態下通過掃描散射曝光確保高品質的反轉曝光特性。 蘇州代理 UNILAM優尼光 光掩膜用掃描UV反轉曝光系統蘇州代理 UNILAM優尼光 光掩膜用掃描UV反轉曝光系統
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特征：寬度1400mm以上的薄膜上做奈米壓印或以微細金型成型模具后，通過UV假固化及UV本固化還有確保高生產效益和高均勻度（正負5%一下），適用在高品質顯示光學薄膜及所屬領域制造。有除去氮氣（N2）的技能。 顯示器用薄膜(透鏡膜、棱鏡膜。曝光膜）&再歸反射薄膜的UV照射或UV固化 蘇州代理 UNILAM優尼光 顯示光學薄膜 & 再歸反射用UV固化裝置 蘇州代理 UNILAM優尼光 顯示光學薄膜 & 再歸反射用UV固化裝置
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蘇州代理 UNILAM優尼光 顯示光學薄膜再歸反射用UV固化裝置蘇州代理 UNILAM優尼光 顯示光學薄膜再歸反射用UV固化裝置蘇州代理 UNILAM優尼光 顯示光學薄膜再歸反射用UV固化裝置
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為的強化LCD BLU薄膜用的棱鏡、微tou鏡膜的信賴性。高生產性及高UV均勻度可以適用在光譜1400mm以上的PET薄膜 高品質的顯示薄膜（透鏡膜、棱鏡膜），PET&TAC薄膜，ITO薄膜的背涂層，硬質涂層，防眩光涂層。蘇州代理 UNILAM優尼光 顯示薄膜背涂層用UV固化裝置蘇州代理 UNILAM優尼光 顯示薄膜背涂層用UV固化裝置蘇州代理 UNILAM優尼光 顯示薄膜背涂層用UV固化裝置
